Китайская SMEE начала массовый выпуск литографов, которые на 90% состоят из китайских компонентов
Такие установки предназначены для производства компонентов ИИ-систем, микросхем памяти, микропроцессоров и Micro LED
Более 90% ключевых компонентов установок производятся в Китае, а оборудование уже выпускается серийно. Несколько систем работают на крупных предприятиях страны, выпускающих логические микросхемы и память; их доступность превышает 92%.
SSC800 использует KrF-литографию и рассчитана на техпроцессы от 110 нм. SSB800 работает по технологии I-line и поддерживает нормы от 280 нм — их применяют при выпуске силовых и аналоговых полупроводников, а также MEMS.
В обеих системах используются разработанные в Китае проекционная оптика, системы освещения, автоматическая подача материалов и двухпозиционная обработка пластин. Точность совмещения слоёв и производительность установок приближаются к показателям зарубежного оборудования соответствующего класса.
Модели представили на выставке China International Import Expo в Шанхае, проходившей с 5 по 10 ноября. SMEE работает с 2002 года и остаётся единственным китайским производителем, способным стабильно поставлять серийные установки сухой проекционной литографии. В декабре 2022 года компанию включили в американский список экспортных ограничений.
Параллельно в Китае развивается иммерсионная DUV-литография. Одна из государственных компаний уже начала массовый выпуск таких установок, однако они пока значительно уступают аналогам ASML.
